| 会員番号 | C-01-016 |
| 本 社 | 東京都 |
| 工 場 | 無 |
| 資本金 | 1,000万円 |
| 業 歴 | 業歴 24年 |
| 従業員数 | 10名 |
| 事業分野 | 新素材の研究開発支援用 熱処理装置 |
| 得意とする製品・装置等 | 赤外線導入加熱装置 ,赤外線真空炉 , 均温熱処理炉 |
| 提供できる技術・サービス等 | 真空中,磁場中,電磁場中等 狭い空間内小面積試料の加熱技術。 特に赤外線を利用した高速昇温、クリーン加熱技術が最も得意とする。 |
| 求めているニーズ等 | 赤外線加熱技術と大学の有する技術を融合した、新しい技術・製品の開発。 |
| 自社開発実績等 | 大気側熱源より赤外線を導入し、超高真空中にある試験試料を加熱する。 赤外線導入加熱装置 (特許) |
| 共同研究実績等 | 平成5年〜7年度 電気通信大学,平成8〜11年度 名古屋工業大学 平成14年〜15年度 産業技術総合研究所 |
| 連携希望形態 | 共同研究 / その他 |
| 特記事項 | 現在の産学連携は大学の技術を産業に移転する視点が主流である。 中小企業のもつ技術と大学の理論、技術と連携する双方向の産学連携の視点も重要。 |
| 助成金等の実績 | 平成3年,平成9年,平成15年度 の3回 東京都中小企業新製品開発助成金を受け、新製品を開発。 |